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  • 檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "拋光墊".ckeyword (精準) and year="106"


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    1
    微細發泡射出成形於拋光墊製造及化學機械平坦化應用研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 李怡萱   指導教授： 陳炤彰
    • 本研究主要為結合超臨界微細發泡射出成形技術(Microcellular Injection Molding, MIM)與化學機械平坦化製程(Chemical Mechanical Planariza…
    • 點閱：308  下載：23 

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    Study on Diamond Dressing for Non-Uniformity of Pad Surface Topography in CMP Process
    • 機械工程系 /106/ 博士
    • 研究生： Quoc-Phong Pham   指導教授： 陳炤彰
    • 化學機械平坦化/拋光（CMP）製程已被廣泛用於製造積體電路（IC)。為了使製造IC的成本降低，晶圓的尺寸越來越大，CMP製程就需要使用夠大的拋光墊。較大的拋光墊尺寸會導致在CMP製程中，拋光墊表面形…
    • 點閱：252  下載：14 

    3
    線上拋光墊性能監測之彩色共軛焦系統取樣分析
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 陳俊臣   指導教授： 陳亮光 、 陳炤彰
    • 本研究主要為研發線上拋光墊監測系統，透過彩色共軛焦量測系統架設應用於旋轉式拋光機台，利用拋光盤面的旋轉運動以及搖臂的搖擺旋轉運動，搭配彩色共軛焦系統擷取高度資訊，進行線上監測之拋光墊表面形貌的掃描及…
    • 點閱：312  下載：3 

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    拋光墊性能分析於淺溝槽隔離化學機械拋光製程研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生： 王詩堯   指導教授： 陳炤彰
    • 化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)目前已被廣泛應用於IC產業中，隨著近年來半導體線寬不斷縮減，CMP製程之穩定性與重現性不斷面臨挑戰。而在…
    • 點閱：264  下載：3 
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